超臨界流體製程
一、儀器設備或實驗室使用規定
本超臨界流體系統主要應用於半導體電子材料、先進記憶體元件與奈米元件之製程處理與材料改質研究，利用超臨界流體兼具氣體高擴散性與液體高溶解能力之特性，可有效進行缺陷鈍化、界面修復與材料內部處理。系統具備寬廣且可精準控制之溫度與高壓操作範圍，並搭載高精度溫控與壓力調控模組，可即時監控並穩定維持超臨界狀態，提供高度可重複之處理條件。腔體內部之流體環境可依製程需求導入不同反應氣體或添加劑，以進行材料缺陷鈍化、介電層品質改善及界面電性優化等製程，進而系統性探討不同超臨界製程參數對元件電性表現與可靠度特性之影響。
服務項目
超臨界流體製程：提供高壓低溫超臨界流體處理技術
規格 ：壓力範圍: 1 ~ 200 atm
溫度範圍: 25 ~ 195 ℃
腔體體積: 254.46 cm3 (半徑: 3 cm，深度: 9 cm)
提供氣體 ：CO2、N2、Ar、O2、CF4、NH3、H2S、NO、NO2
提供液體 ：H2O、乙醇、乙酸、氨水 (使用其他液體請先與助教討論)
二、儀器設備使用或服務之收費標準
| 編號 | 項目 | 收費標準（元/件或小時） | 備註 |
| 1 | 使用氣體含CF4、NH3、H2S、NO、NO2 | 3000元/件 | |
| 2 | 使用氣體為CO2、N2、Ar、O2或液體為H2O、乙醇 | 1000元/件 | |
| 3 | 使用液體含乙酸、氨水等弱酸弱鹼 | 額外加收2000元/件 | 加收費用為腔體清潔費 |
三、實驗室主持人及聯絡人資訊
| 職稱 | 單位 | 分機/手機 | ||
| 蔡宗鳴 | 副教授 | 材料與光電科學學系 | 07-5252000#4055 | tmtsai@mail.nsysu.edu.tw |
| 周聖堯 | 博士生 | 材料與光電科學學系 |
07-5252000#4055 07-5252000#3708 |
bigbite201285@gmail.com |
| 凃泓邑 | 博士生 | 材料與光電科學學系 |
07-5252000#4055 07-5252000#3708 |
tutuyi1216@gmail.com |
四、實驗室對外開放時間
| 星期一 | 星期二 | 星期三 | 星期四 | 星期五 |
|
9:00-12:00 13:00-17:00 |
9:00-12:00 13:00-17:00 |
9:00-12:00 13:00-17:00 |
9:00-12:00 13:00-17:00 |
9:00-12:00 13:00-17:00 |
※開放時間外若需要使用，請聯絡負責人
聯絡人:
林佩宜
聯絡分機:
2609
瀏覽數:
分享
